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  • 制冷加熱循環(huán)設備-80℃ ~ 250℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)設備-80℃ ~ 250℃

    更新時間:2024-12-26

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 加熱制冷循環(huán)設備-80℃~250℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環(huán)設備-80℃~250℃。

    更新時間:2025-12-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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